Hệ thống lắng đọng hơi hóa học Pecvd

Mô tả Sản phẩm

Hệ thống lắng đọng hơi hóa chất

Giới thiệu về thiết bị
Dòng EPEE 550 được chế tạo với độ chính xác vượt trội trong kết quả của các bộ phim điện môi như SiO2, SiNx và Sion trên một loạt tấm wafer 2 đến 8 inch. Hệ thống này được trang bị một ngăn phản ứng tiên tiến, duy nhất hỗ trợ cấu hình nhiều tấm wafer, đảm bảo lưu lượng cao trong khi vẫn tiết kiệm chi phí. Nó đã trở thành một thành phần thiết yếu trong quy trình sản xuất đèn xanh lục-lam và vàng đỏ của ngành LED.
Tính năng sản phẩm
Có một tấm lót dung lượng lớn có thể thích ứng với nhiều kích cỡ tấm wafer khác nhau
Mang đến sự đồng nhất tuyệt vời của các phương pháp lắng đọng màng
Tích hợp công nghệ làm sạch tại chỗ công suất cao để bảo trì hiệu quả
Cung cấp các cấu hình nguồn điện tần số cao và thấp tùy chọn để điều chỉnh căng thẳng trong phim khi cần
Đảm bảo chi phí sở hữu thấp với chi phí vận hành tối thiểu
Ứng dụng Sản phẩm
Hỗ trợ kích cỡ tấm wafer: 8 inch trở xuống
Tương thích với các vật liệu: Ôxit silicon, nitrat silicon, xe oxy silicon
Lý tưởng cho các quy trình: Lớp bảo vệ, lớp che, lớp chặn hiện tại
Có thể áp dụng trong các lĩnh vực: Hiển thị và chiếu sáng chất bán dẫn, cũng như nghiên cứu khoa học Thông số sản phẩm Thông số sản phẩm

Mục	Thông số kỹ thuật
Kích cỡ tấm bán dẫn	2, 4, 6, 8 inch
Đế	Si, SIC, GaAs, Al2O3
Kiến trúc	Một lần PM
Phương pháp tải	Xử lý thủ công
Số lượng tấm wafer	19×4-inch, 8×6-inch, 4×8-inch, hoặc được tùy chỉnh
Vật liệu lắng	SiO2, SiNx, Sion
Cấu hình khí	SIH4, N2O, N2, CF4, O2, NH3 (tối đa 7 đường bay)

Ảnh chi tiết