99.9% Vo2 Mục tiêu phun cho nghiên cứu PVD

Lợi thế của chúng ta

Các mục tiêu tiêu tiêu tiêu chuẩn của chúng tôi về phim mỏng có sẵn đơn khối hoặc được liên kết với kích thước và cấu hình mục tiêu phẳng lên đến 820 mm với vị trí khoan lỗ và cắt ren, cắt mép, rãnh và khung hỗ trợ được thiết kế để làm việc với cả thiết bị cắt ren cũ hơn cũng như thiết bị xử lý mới nhất, chẳng hạn như lớp phủ diện tích lớn cho năng lượng mặt trời hoặc các pin nhiên liệu và các ứng dụng chip lật. Các mục tiêu có kích thước nghiên cứu cũng được tạo ra cũng như các kích thước và hợp kim tùy chỉnh. Tất cả các mục tiêu được phân tích bằng các kỹ thuật được thể hiện tốt nhất bao gồm huỳnh quang tia X (XRF), phổ thông khối lượng phóng xạ đốt sáng (GDMS) và plasma ghép đôi bằng điện cực (ICP). “hóa” cho phép lắng màng mỏng bằng kim loại hoặc chất ô-xít có độ tinh khiết cực cao lên một chất nền rắn khác bằng cách loại bỏ và chuyển đổi được kiểm soát vật liệu mục tiêu thành một pha khí/huyết tương trực tiếp thông qua đánh bom ion. Ngoài phạm vi này, chúng tôi còn có thể cung cấp các mục tiêu chỉ với bất kỳ kích thước hình chữ nhật, hình lập thể hoặc mục tiêu hình bầu dục nào.